兴燃再获专利授权:一种电解槽密封机构及电解槽

发布时间:2025-01-24    来源:兴燃科技   关键词:兴燃科技,电解槽,制氢技术,

兴燃科技再获专利授权

兴燃科技又新获得一项实用新型专利授权,专利名为“一种电解槽密封机构及电解槽”,专利申请号:202421886999.X

专利摘要

本申请涉及电解槽技术领域,具体为一种电解槽密封机构及电解槽,包括:集流层,有至少一层;端板,设于所述集流层的至少一侧,所述端板设有安装通道;绝缘层,设于所述集流层、端板之间,所述绝缘层导有与所述安装通道形状一致的通孔;过流结构,穿过所述安装通道、通孔与所述集流层密封地相抵,所述过流结构设有与外界连通的过流通道,流体通过所述过流通道进入和/或离开所述集流层。本申请的过流结构穿过端板、绝缘层与集流层相抵,直接将流体导入或导出,该过流结构可直接隔绝流体与端板接触,再通过与绝缘层的配合,进一步提升密封效果。


资讯来源:兴燃科技

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